台积电微製像技术发展处资深处长林本坚昨(12)日获选2008年美国国家工程学院院士，这是继台积电董事长张忠谋、前技术长胡正明之后，第三位取得此一资格的台积电员工。

　　林本坚提出的193「浸润式微影技术」(Im-mersion Lithography)，是半导体产业的创举，这项技术对半导体与台积电在65奈米以下先进製程，都有非常大的贡献。

　　随IC元件愈缩愈小，微影技术必须更细微精确，才能在先进製程中成功的将电路显像在晶圆上。

　　微影技术方式，之前从436奈米波长、365奈米波长的0.35到0.5奈米製程技术，进展到248奈米波长、193奈米波长的0.25到0.1奈米製程技术。

　　林本坚在2002年发明浸润式微影，又将193奈米波长透过水的折射，延长到32奈米；林本坚是在193奈米机台加入水为媒介，可得出更短的波长，让台积电在2004年11月启用全世界第一台193奈米「浸润式微影技术」机台，从此跨入生产65奈米製程。

　　这项技术的突破，使台积电一下子跳过三个技术世代，也让全世界半导体产业都将这个技术列为65奈米以下的主流。

　　今年65岁的林本坚，2003年曾获得美国电机电子工程学会学士资格，这次更在2,200多个会员中，成为65名美国国家工程师院士之一。