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台积林本坚 获选美工程院士
手机免费访问 www.cnfol.com 2008年02月13日 10:26 经济日报 陈碧珠
  台积电微製像技术发展处资深处长林本坚昨(12)日获选2008年美国国家工程学院院士,这是继台积电董事长张忠谋、前技术长胡正明之后,第三位取得此一资格的台积电员工。

  林本坚提出的193「浸润式微影技术」(Im-mersion Lithography),是半导体产业的创举,这项技术对半导体与台积电在65奈米以下先进製程,都有非常大的贡献。

  随IC元件愈缩愈小,微影技术必须更细微精确,才能在先进製程中成功的将电路显像在晶圆上。

  微影技术方式,之前从436奈米波长、365奈米波长的0.35到0.5奈米製程技术,进展到248奈米波长、193奈米波长的0.25到0.1奈米製程技术。

  林本坚在2002年发明浸润式微影,又将193奈米波长透过水的折射,延长到32奈米;林本坚是在193奈米机台加入水为媒介,可得出更短的波长,让台积电在2004年11月启用全世界第一台193奈米「浸润式微影技术」机台,从此跨入生产65奈米製程。

  这项技术的突破,使台积电一下子跳过三个技术世代,也让全世界半导体产业都将这个技术列为65奈米以下的主流。

  今年65岁的林本坚,2003年曾获得美国电机电子工程学会学士资格,这次更在2,200多个会员中,成为65名美国国家工程师院士之一。
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